インジウム・ナイトライド InN

当社では最先端材料であるInNエピウエハーの販売を開始しております。
InNは以下の様な観点から大変に注目されている材料です。

1)電子移動度が大きい
  現在知られている半導体としては最大
  超高速・高周波電子デバイスへの応用に期待
2)GaNやAlNと混晶を形成
  赤外域から紫外域までの発光・受光デバイスへ応用可能
  超高効率タンデム太陽電池の開発に有望

当面、InNエピウエハーの仕様は以下の通りです。

形状         :25mmX25mm 矩形
成長方法      :MOCVD
基板         :サファイアC面
エピ層厚み     :1μm以下
伝導型        :n型
残留キャリヤ濃度 :4〜9X1018cm−3
電子移動度     :500〜1000 cm/Vs

添付データ等の詳細についてはご相談ください。 

 ガリウム・ナイトライド GaN(テンプレート・自立基板)

   テンプレート
      基板  :サファイア、SiC
      エピ層 :アンドープ、n型

   自立基板(n型)
      直径  :2インチ
      厚さ   :400μm
      結晶面 :(0001)