インジウム・ナイトライド InN
当社では最先端材料であるInNエピウエハーの販売を開始しております。
InNは以下の様な観点から大変に注目されている材料です。
1)電子移動度が大きい
現在知られている半導体としては最大
超高速・高周波電子デバイスへの応用に期待
2)GaNやAlNと混晶を形成
赤外域から紫外域までの発光・受光デバイスへ応用可能
超高効率タンデム太陽電池の開発に有望
当面、InNエピウエハーの仕様は以下の通りです。
形状 :25mmX25mm 矩形
成長方法 :MOCVD
基板 :サファイアC面
エピ層厚み :1μm以下
伝導型 :n型
残留キャリヤ濃度 :4〜9X1018cm−3
電子移動度 :500〜1000 cm2/Vs
添付データ等の詳細についてはご相談ください。
ガリウム・ナイトライド GaN(テンプレート・自立基板)
テンプレート
基板 :サファイア、SiC
エピ層 :アンドープ、n型
自立基板(n型)
直径 :2インチ
厚さ :400μm
結晶面 :(0001)